La Plateforme Technologique de Micro-fabrication est dotée des équipements suivants :
- Photolithographie (I-line UV stepper 6”+Dual Coater & Developer Track).
- Gravure humide et nettoyage (SAT, SST, etc.).
- Gravure sèche par plasma (Métal, PolySi , Oxyde, Nitrure).
- Implantation ionique en Phosphore (dopage N), Bore (dopage P) et Arsenic (dopage N).
- Diffusion et dépôt (Silice, nitrure, poly, Oxydation) avec des fours horizontaux destinés pour la réalisation des procédés à pression atmosphérique et à basse pression.
- Dépôt Métal PVD (Aluminium, Titane, TiN).
- Dépôt de films minces PECVD (oxyde & nitrure).
- Métrologie, Inspection & Test.
- Découpe & encapsulation.
Voir en ligne : Les équipements
